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超純水設(shè)備

簡要描述:超純水設(shè)備是應(yīng)用有反滲透系統(tǒng)之后,取代混合離子交換床的成熟技術(shù)具有產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定,運行費用低,操作管理方便,占地面積小及無有害廢水排放等優(yōu)點.超純水制備工藝的發(fā)展方向,已被全SJ主要水處理工程公司所認證.

  • 產(chǎn)品型號:SZD-0.25-20T/H-UPW
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2022-11-04
  • 訪  問  量:9219

詳細介紹

品牌其他品牌微生物<1cfu/ml
顆粒物(>0.1μm)<1μm熱源/內(nèi)毒素<0.002EU/ml
總有機碳(TOC)≤20ppb重金屬離子≤20
電阻率18.25MΩ·CM儀器種類超純水儀
價格區(qū)間5萬-10萬純水水質(zhì)一級純水器
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥

一、什么是EDI超純水設(shè)備

是應(yīng)用有反滲透系統(tǒng)之后,取代混合離子交換床的成熟技術(shù)具有產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定,運行費用低,操作管理方便。占地面積小及無有害廢水排放等優(yōu)點。超純水制備工藝的發(fā)展方向,已被全SJ主要水處理工程公司所認證。自1986年EDI技術(shù)工業(yè)化以來,已有數(shù)千套EDI投入支行,尤其在制藥、半導(dǎo)體、電力和光電等工業(yè)中得到了非常廣泛的應(yīng)用??偟恼f有八大優(yōu)點:

   ① 不需要酸堿再生;

   ② 可連續(xù)生產(chǎn):

   ③ 不需要處理廢酸堿;

   ④ 運行成本低;

   ⑤ 系統(tǒng)設(shè)計安裝簡單;

   ⑥ 安裝條件簡單;

   ⑦ 出水水質(zhì)穩(wěn)定;

   ⑧ 標準設(shè)計。

二、EDI超純水設(shè)備技術(shù)

  EDI是水處理技術(shù)上一項革命性進步。該技術(shù)應(yīng)用電再生離子交換除鹽工藝取代傳統(tǒng)混合離子交換除鹽工藝 DI 。通過離子交換樹脂及選擇性離子膜達到高脫鹽效果,與反滲透結(jié)合的聯(lián)合工藝使產(chǎn)水水質(zhì)可達 10~15M Ω• CM 的高規(guī)格產(chǎn)水。

三、EDI超純水設(shè)備基本參數(shù)

1、給水:RO純水,一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。

2、PH:5.0-8.0(在此PH條件下,水硬度不能太高)

3、溫度:5-35℃

4、進水壓力:最大為4kg/cm2(60psi),最小為1.5kg/cm2(25psi)。

四、EDI純水模塊(電除鹽)的優(yōu)點

1、不需要酸堿再生:電除鹽的操作安全的,廢水的處理變得簡單了。

2、可連續(xù)生產(chǎn):電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的,免除了使用混床過程中復(fù)雜的再生操作,減少了很多備用設(shè)備。

3、不需要處理廢酸堿:沒有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進口(EDI中濃水量比純水少得多)。

4、安裝條件簡單:電除鹽在安裝時,占地面積小,大部分標準廠房都能滿足,對于較低的廠房,可以通過對電除鹽模塊的水平配置解決。

5、系統(tǒng)設(shè)計簡單:電除鹽的模塊設(shè)計很容易把它的流量做到450噸/小時甚至更高。

6、運行成本低:電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比,在價格上有競爭性。

7、實用的設(shè)計:對于電除鹽系統(tǒng),不管是維修還是增減設(shè)備的容量都是很容易的,必須要更換膜堆時,在現(xiàn)場只要花極少的停機時間就可以完成。

8、水質(zhì)穩(wěn)定:電除鹽的出水質(zhì)量穩(wěn)定有把握。不會有普通混床那樣的水質(zhì)變化。

9、安裝維修簡便:電除鹽裝置允許通過對其他膜堆的流量重新分配而達到對某一個膜堆維修的要求,不改變系統(tǒng)的性能。

10、標準設(shè)計:利用標準單元,如同搭積木般的組合可以滿足用戶不同產(chǎn)水量的需要。

四、應(yīng)用

應(yīng)用于電池行業(yè)領(lǐng)域,超純水系統(tǒng)設(shè)備在工業(yè)行業(yè)中的應(yīng)該領(lǐng)域很是廣泛。電池行業(yè)用超純水包括蓄電池生產(chǎn)用純水,鋰電池生產(chǎn)用純水,太陽能電池生產(chǎn)用純水,蓄電池格板用純水。電池中電解液的配備對純水要求十分嚴格, 通常要求水的電導(dǎo)率在0.1us/cm(電阻值在10兆歐姆)以上,傳統(tǒng)用來制備電池用超純水的工藝是常采用陰陽樹脂交換設(shè)備,該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經(jīng)常再生。

1.電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。

2.化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水制備。

3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。

4.食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。

5.海水、苦咸水淡化:海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。

6.樓宇、社區(qū)優(yōu)質(zhì)供水:星級賓館、機場、房產(chǎn)物業(yè)純水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)等。

7.化工行業(yè)工藝用水:化工冷卻、化肥、化學(xué)藥劑制造。

8.工業(yè)產(chǎn)品制造用水:汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗等純水制備。

9.電力行業(yè)鍋爐補給水:熱力、火力發(fā)電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統(tǒng) 精細化工、精尖學(xué)科用水。

超純水設(shè)備中EDI模塊的進水經(jīng)過預(yù)處理和反滲透系統(tǒng)在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機會,但是隨著設(shè)備運行時間的延展,EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞。遇到上述情況,必須對超純水系統(tǒng)設(shè)備中EDI模塊進行清洗,使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

EDI模塊要怎么清洗?

1、在線清洗:在線清洗就是指對反滲透系統(tǒng)總體開展清洗,膜元器件無需取出高壓容器,一般在很大系統(tǒng)軟件中設(shè)計方案應(yīng)用。此清洗方法使用方便便捷,速度快,缺陷為清洗不*,實際效果不理想化。

2、線下清洗:線下清洗就是指將超純水系統(tǒng)設(shè)備中EDI模塊從反滲透高壓容器中卸掉,裝進專用型清洗機器設(shè)備中開展清洗,此清洗方法使用方便便捷,清洗*、實際效果好。

清洗注意事項:

1、需要清洗的設(shè)備管路必須是與其他連接設(shè)備的連接管路*隔離的。

2、需要清洗的設(shè)備其電源必須是*切斷并有“正在操作,不得送電”的安全警示。

3、整個清洗過程中清洗的工作壓力不能超過 0.15MPa。

4、嚴禁應(yīng)用甲苯或別的的有機溶劑。

5、維護安全性標識。

 

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